ASML CEO Peter Wennink表示，近幾年，由于新冠疫情供應鏈停滯，芯片行業出現了長達多年的短缺。而現在，由于全球消費電子產品出貨量持續下降，科技行業又再次進入半導體供應過剩的窘境。
這位CEO還重申，中國是全球最大的計算機芯片市場，這就要求阿斯麥必須繼續獲得中國的市場準入權，這是絕對必要的。
他援引中國一家汽車制造商的話稱，這家汽車制造商計劃在未來三年制造大量的電動汽車，要求六七家成熟的半導體工廠為其供貨，但中國本土的芯片工廠仍處于建設之中。
“阿斯麥與中國市場的往來，無論是對阿斯麥來說，還是對中國客戶來說，都十分重要。上周，阿斯麥公布了強勁的第一季度業績，并稱其對中國的銷售額將繼續增加。”Peter Wennink堅定的說道。
最新財報中，中國企業占阿斯麥第一季度營收的 22%，中國買家占到阿斯麥成熟芯片制造設備訂單的3成左右，較去年底占比提升了約10%。
在這之前，ASML強調，新的出口管制措施并不針對所有浸潤式光刻系統，而只涉及所謂“最先進”的浸潤式光刻系統。截至目前企業尚未收到有關“最先進”的確切定義的信息，公司將其解讀為在資本市場日會議上定義的“關鍵的浸潤式光刻系統”，即TWINSCANNXT：2000i及后續推出的浸潤式光刻系統。
所謂浸沒式光刻機，屬于193nm(光源)光刻機(分為干式和浸沒式)，可以被用于16nm至7nm先進制程芯片的制造，但是目前也有被業界廣泛應用在45nm及以下的成熟制程當中。
ASML公司官網信息顯示，該公司主流的DUV光刻機產品共有三款設備：TWINSCAN NXT：1980Di，TWINSCAN NXT：2000i和TWINSCAN NXT：2050i，其中2000i和2050i兩款是公司在聲明所指的產品。
ASML官網上關于這一臺TWINSCAN NXT:1980Di的介紹，其中在分辨率方面，寫到是大于等于38nm(可以支持到7nm左右)，而這是指一次曝光的分辨率，事實上光刻機是可以進行多次曝光的。
理論上NXT:1980Di依然可以達到7nm，只是步驟更為復雜，成本更高，良率可能也會有損失，晶圓廠用這一臺光刻機，大多是生產14nm及以上工藝的芯片，很少去生產14nm以下的工藝，因為良率低，成本高，沒什么競爭力。
